Thin Film Laboratory of Sophia University

坂間研究室では酸化物薄膜の基礎的・応用的研究を行っています。

当研究室は、パルスレーザー堆積(PLD)法、化学気相成長(CVD)法、ゾルゲル法、スパッタリング法など多種多様な薄膜成長技術を有しています。それらを駆使して強磁性強誘電体、光触媒、超伝導体などの薄膜や超格子を作製し、全く新しい機能をもつ革新的な酸化物デバイスの開発を目指しています。

現在取り組んでいるテーマは、

�@マルチフェロイック酸化物人工超格子を用いた超高速極低消費電力ハードディスクの開発
�A高機能チタニア光触媒の創製
�B酸化物高温超伝導電線の低コスト製造技術開発

です。

上記以外にも、薄膜を用いた興味深い研究があれば積極的に取り組んでいく所存です。